不锈钢反应釜内表面抛光工艺的技术要求需结合使用场景与介质特性，通过控制表面粗糙度、钝化层质量及工艺稳定性，实现抗腐蚀与易清洁的双重目标。抛光精度直接影响物料残留与化学反应效率，需从工艺选择、参数控制及质量检测等方面制定规范。

抛光工艺主要包括机械抛光与电解抛光。机械抛光通过旋转或线性打磨，利用抛光膏与抛光盘的摩擦作用去除表面氧化皮与微观凸起，需遵循由粗到细的砂带目数递增原则，常见流程为60目粗抛至600目精抛，逐步降低表面粗糙度。电解抛光则通过阳极溶解作用，在低电压大电流条件下使金属表面形成稠性黏膜，利用凹凸处膜厚差异实现微观整平，同时提升钝化层抗腐蚀能力。两种工艺可结合使用，机械抛光后进行电解抛光，进一步优化表面光洁度。

技术参数需根据介质特性确定，化工领域通常要求粗糙度≤0.8微米，医药行业需≤0.4微米，部分特殊场景如糊树脂釜需≤0.05微米。抛光过程中需控制抛光膏粒度、电解液成分及电流密度，避免过度抛光导致壁厚减薄或晶间腐蚀。表面处理后需检测钝化层完整性，确保无划痕、针孔等缺陷，凹凸处厚度均匀，电流密度分布合理。

质量检测需采用粗糙度仪等工具，结合目视检查确认表面无明显纹路、色泽均匀。对于密封面与焊缝区域，需重点处理焊痕与热影响区，通过补焊、磨平后再抛光，确保过渡平滑。抛光完成后需清洁表面残留抛光剂，避免杂质残留影响后续使用。

规范的抛光工艺是不锈钢反应釜性能达标的关键。通过合理选择工艺组合、严格控制参数与检测标准，可有效提升内表面质量，满足不同行业对耐腐蚀、易清洁的使用需求，为化学反应的稳定进行提供基础保障。